現在の背景色で既存のジオメトリにオーバーレイされる形状、マスクを作成することができます。 既存のジオメトリは消去されません。
マスク(Mask)コマンドを使ってポリゴン形状を作成または既存のポリゴンを選択して下のエンティティを隠すことができます。 このポリゴンを図面の一部に配置した後、その上にエンティティを追加することもできます。
不透明な文字を配置してマスクされた領域に注釈を作成したり、マスクを使ってさらに詳細化が必要なエリアをハイライトすることができます。
既存の作図エンティティとなじむようマスクの枠は非表示にすることもできます。 これは印刷の際などに便利です。
マスクを使った各種ケースの表示状態をコントロールするには 画層(Layers)を使用します。
点からマスクをを作成するには:
ポリラインからマスクを作成するには:
マスクの枠を表示または非表示にするには:
アクセス
コマンド: Mask
メニュー: 作成(Draw) > マスク(Mask)