마스크 작성

현재 배경색으로 기존 형상을 중첩하는 그림인 마스크를 작성할 수 있습니다. 기존 형상은 지워지지 않습니다.

Mask 명령을 사용하면 다각형 스냅을 작성하거나 기존 다각형을 선택하여 기반 도면요소에 마스크를 작성할 수 있습니다. 도면의 한 부분에 다각형을 배치한 후 그 다각형 위에 도면요소를 추가할 수 있습니다.

마스크가 작성된 영역을 불투명한 문자를 근처에 배치하거나 더 상세화해야 할 도면 영역을 강조 표시하여 주석을 답니다.

마스크 프레임을 꺼 기존 도면요소와 자연스럽게 혼합할 수 있습니다. 이 기능은 도면을 인쇄하기 전에 사용하면 유용합니다.

  마스크의 각기 다른 시나리오의 가시성을 제어하려면 도면층을 사용합니다.

점을 지정하여 마스크 작성하기:

1. 도면 > 마스크를 클릭합니다(또는 Mask 입력).
2. 그래픽 영역에서 마스크를 작성할 영역의 윤곽선을 정의하는 일련의 점을 선택합니다.
3. Enter를 누릅니다.

폴리선으로 마스크 작성하기:

1. 도면 > 마스크를 클릭합니다(또는 Mask 입력).
2. 폴리선 옵션을 지정합니다.
3. 그래픽 영역에서 폴리선을 선택합니다. 폴리선은 닫혀야 하고 0폭의 선 세그먼트로 구성되어야 합니다.
4. 예 옵션을 지정합니다.

마스크 프레임 표시/숨기기:

1. 도면 > 마스크를 클릭합니다(또는 Mask 입력).
2. 프레임 옵션을 지정합니다.
3. 마스크 프레임을 표시하려면 예 옵션을 지정하고 프레임을 숨기려면 아니오 옵션을 지정합니다.

액세스

명령: Mask

메뉴: 도면 > 마스크