マスクの作成（Creating a Mask）¶
現在の背景色で既存のジオメトリにオーバーレイされる形状、マスクを作成することができます。 既存のジオメトリは消去されません。
**マスク**（Mask）コマンドを使ってポリゴン形状を作成または既存のポリゴンを選択して下のエンティティを隠すことができます。 このポリゴンを図面の一部に配置した後、その上にエンティティを追加することもできます。
不透明な文字を配置してマスクされた領域に注釈を作成したり、マスクを使ってさらに詳細化が必要なエリアをハイライトすることができます。
既存の作図エンティティとなじむようマスクの枠は非表示にすることもできます。 これは印刷の際などに便利です。
マスクを使用して異なるシナリオの表示を制御するには、 画層 を使用します。
点からマスクをを作成するには：
作成（Draw） > マスク（Mask ）**をクリックします（または**Mask と入力します）。
グラフィックス領域でマスクするエリアの輪郭を定義する点を順に選択します。
Enter キーを押します。
ポリラインからマスクを作成するには：
作成（Draw） > マスク（Mask ）**をクリックします（または**Mask と入力します）。
**ポリライン**（PolyLine）オプションを指定します。
グラフィックス領域でポリラインを選択します。 ポリラインは閉じており幅0の線分のみで構成されていなければなりません。
ポリラインを保持するには、はい オプションを指定します。
マスクの枠を表示または非表示にするには：
作成（Draw） > マスク（Mask ）**をクリックします（または**Mask と入力します）。
**フレーム**（Frames） オプションを指定します。
**はい**（Yes）オプションの指定により、マスクの枠を表示します。 **いいえ**（No）オプションを指定すると非表示になります。
アクセス
コマンド: Mask
メニュー: 作成（Draw） > マスク（Mask）
リボン: 注釈 > 改訂 > マスク
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