選択エンティティのオフセット¶
OffsetX コマンドを使用して、選択したエンティティにオフセットを適用し、新しいエンティティを作成します。
OffsetX では、次のオプションに対して、 Offset コマンドよりも柔軟性が向上します。
複数(Multiple): グラフィックス領域で複数のオフセットを 1 つずつ作成できます。
元に戻す(Undo): いつでも、最新の操作の効果を元に戻すことができます。
ギャップ タイプ(Gap Type): オフセット ポリラインのギャップを埋めるために、延長、フィレット、または面取りされたコーナーを作成します。
指定した点を通るオフセット エンティティを作成するには:
次のいずれかを実行します。
リボンで XtraTools > 修正(Modify) > OffsetX をクリックします。
メニューで XtraTools > 修正(Modify) > OffsetX をクリックします。
OffsetX と入力します。
**通過(Through)**オプションを指定します。
グラフィックス領域で、オフセットするエンティティを指定します。
新しいエンティティの点を指定します。
必要に応じて、次のいずれかを実行します:
Enter キーを押してコマンドを終了します。
複数のオフセットを作成するには:
次のいずれかを実行します。
リボンで XtraTools > 修正(Modify) > OffsetX をクリックします。
メニューで XtraTools > 修正(Modify) > OffsetX をクリックします。
OffsetX と入力します。
ソース エンティティとターゲット エンティティ間のオフセット距離を入力するか、Enter キーを押します。
グラフィックス領域で、オフセットするエンティティを指定します。
**複数(Multiple)**オプションを指定します。
オフセットを作成する側面を指定します。
オフセットの終点を指定し、Enter キーを押します。
アクセス
コマンド: OffsetX
メニュー: XtraTools > 修正(Modify) > OffsetX
リボン: XtraTools > 修正(Modify) > OffsetX
親トピック