オフセットエンティティの作成（Creating Offsets of Entities）¶

**オフセット（Offset）**コマンドを使用して、平行な形状の直線、2D ポリライン、円、円弧、楕円、楕円弧、スプライン、放射線、構築線を作成します。選択されたエンティティのコピーが、元のエンティティから指定された距離で配置されます。元のエンティティは同じ位置に残ります。

オフセットは作図エンティティの種類によって異なります：

直線：同一のコピーを作成し、指定した方向と距離で移動します。
円、円弧、楕円：エンティティの中心を尺度の基点としてコピーを作成しスケールします。元のエンティティよりも小さいまたは大きい半径の、同心円または同心円弧を作成できます。

エンティティのオフセットを作成するには：

修正（Modify） > オフセット（Offset）**をクリック（または「**Offset」と入力）します。
ソースエンティティとターゲットエンティティ間のオフセット距離を入力するか、オプションを指定します：
- 削除（Delete）。エンティティのコピーが配置される際、元のエンティティを削除します。
- 距離（Distances）。複数のオフセットを作成します。オフセットするエンティティを選択し、オフセットする側をクリックします。最初の距離と2番目の点を指定します。続けてオフセットを追加指定できます。
- 目的の画層（Destination layer）。エンティティをアクティブな画層にコピーするかソース画層にコピーするかを指定します。
- 通過点（Through point）。指定した点を通るオフセットエンティティを作成します。
- ギャップタイプ（Gap type）。オフセットポリラインの潜在的なギャップを埋めるギャップタイプを指定します:
  - 円弧（Arc）。ギャップをフィレットします。フィレット半径はオフセット距離と等しくなります。
  - 面取り（Chamfer）。ギャップを面取りします。各面取りから、ソース線形ポリライン線分上の対応する頂点までの垂直距離は、オフセット距離と等しくなります。
  - ナチュラル（Natural）。線形ポリライン線分を、投影される交差まで延長します。
オフセットするエンティティを選択します。