선택된 엔티티 간격 띄우기

OffsetX 명령을 사용하여 선택된 도면요소에 오프셋을 적용하여 새 도면요소를 작성합니다.

**OffsetX**는 다음 옵션에 대해 Offset 명령보다 유연성을 제공합니다.

• 다중: 그래픽 영역에서 여러 개의 오프셋을 하나씩 작성할 수 있습니다.

• 실행 취소: 언제든지 최근 작업의 효과를 되돌릴 수 있습니다.

• 간격 유형: 오프셋 폴리선의 틈을 채우기 위해 연장되거나 필렛되거나 모따기된 구석을 작성합니다.

지정된 점을 통해 오프셋 엔티티를 생성하려면:

1. 다음 중 하나를 수행합니다.

   • 메뉴에서 **XtraTools > 수정 > 오프셋X**를 클릭합니다.

   • 리본에서 **XtraTools > 수정 > 오프셋X**를 클릭합니다.

   • **OffsetX**을 입력합니다.

2. 통과 옵션을 지정합니다.

3. 그래픽 영역에서 오프셋할 도면요소를 지정합니다.

4. 새 엔티티의 점을 지정하십시오.

5. 선택적으로, 다음 중 하나를 수행합니다.

   • 실행 중인 OffsetX 명령을 종료하지 않고 이전 오프셋을 되돌리려면 실행 취소 옵션을 지정합니다.

   • 새 오프셋을 여러 개 만들려면 **Shift+Pick**을 사용합니다.

   • 새 오프셋을 만들고 원본 개체를 지우려면 **Ctrl+Pick**을 사용합니다.

6. **Enter**를 눌러 명령을 끝냅니다.

다중 오프셋 작성:

1. 다음 중 하나를 수행합니다.

   • 메뉴에서 **XtraTools > 수정 > 오프셋X**를 클릭합니다.

   • 리본에서 **XtraTools > 수정 > 오프셋X**를 클릭합니다.

   • **OffsetX**을 입력합니다.

2. 원본과 대상 도면요소 간의 오프셋 거리를 입력하고 Enter 키를 누릅니다.

3. 그래픽 영역에서 오프셋할 도면요소를 지정합니다.

4. Multiple 옵션을 지정합니다.

5. 오프셋을 만들려는 면을 지정합니다.

6. 오프셋 대상 점을 지정한 다음 Enter 키를 누릅니다.

액세스

명령: 오프셋X

메뉴: XtraTools > 수정 > 오프셋X

리본 메뉴: XtraTools > 수정 > 오프셋X

부모 주제

편집 도구